1 本文介紹年發(fā)展的輝光放電質譜計的原理、結構、特性及其應用。

2 為研究輝光放電釬焊對材料的適應性，對幾種常用的黑色金屬和有色金屬進行了輝光釬焊。

3 本文討論磁場中中等低氣壓弧光放電與輝光放電的正柱理論。

4 依據(jù)微空心陰極自持的輝光放電結構，設計了一款新穎的微小放電結構。

5 研究了在熱陰極輝光放電等離子體化學氣相沉積金剛石膜過程中，熱陰極輝光放電特性與金剛石膜沉積工藝的關系。

6 本文研究了45鋼輝光放電膏劑滲硼工藝。

7 大電流熱陰極輝光放電用于等離子體化學氣相沉積金剛石膜，有效地提高了沉積速率和膜品質。

8 本文介紹了本實驗室研制的瞬短脈沖輝光放電飛行時間質譜儀。

9 這些不同的輝光放電的鞘是低得多。

10 微空心陰極放電是一種新穎的、非衡、高氣壓輝光放電。

11 在此基礎上，根據(jù)大氣壓下有利于均勻輝光放電的放電條件，最終推算出有利于均勻輝光放電的最小電源頻率。

12 通過X射線衍射、輝光放電光譜、掃描電鏡等分析手段，對鋅鎳合金鍍層的成分變化規(guī)律、微觀形貌和結構以及腐蝕產物進行研究。

13 本文敘述了輝光放電等離子體源的等離子體源離子注入。

14 大氣壓輝光放電等離子體技術應用前景非常廣泛。

15 試驗獲得的激勵電壓、頻率對誘導氣流速度影響的定量關系有助于進一步揭示輝光放電等離子體EHD的機理，也為等離子體在流動控制方面的應用奠定了基礎。高考升學網整理

16 該激光器的脈沖放電行為由旋轉火花開關和高壓脈沖觸發(fā)器進行控制，并通過自動翻轉電路實現(xiàn)對稱張氏電極之間的均勻輝光放電。

17 文中論述了等離子體表面改性的作用機理、優(yōu)點，介紹了產生大氣壓直流輝光放電和交流輝光放電的方法。

18 本文在離子氮化裝置及離子氮化工藝試驗研究的基礎上，根據(jù)氣體放電理論，提出并討論了雙層輝光放電現(xiàn)象。

19 鋼表面納米、亞微米尺度薄膜。元素深度分布的定量測定。輝光放電原子發(fā)射光譜法。